据日媒此前报道，日本于今年3月下旬宣布对《外汇和外国贸易法》进行修订，加强对6大类23种高性能半导体制造设备的出口管制，以“努力与美国合作防止技术流向中国而转移到军事用途上”。经济产业省称，限制涉及的种类范围包括清洗、薄膜沉积、热处理、蚀刻、检测等。日本政府5月23日出台半导体制造设备出口管制措施，于7月23日起实施。

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　　在这次会议上，赖化平强调，“弘霖煤矿、排山楼金矿在问题整改中，要逐项分析问题成因，做到整改工作有的放矢，着力从根本上解决问题。”

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